投標廠商:投標廠商1:廠商代碼

商工登記公示資料司法院裁判書

投標次數

得標次數

100.0%

得標率

—

得標金額待補（0/23 件）

0.0%

得標時單一投標率

近期戰績

最近 30 場

輸的時候出多少、輸給誰，是最好的定價參考。

決標日	機關	標案	它的出價	決標價	結果
2005/02/23公告	財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室	高密度電漿化學氣相沈積系統(HDP CVD)氣體控制系統修改壹式	—	—	得標
2004/08/03公告	財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室	高密度電漿化學氣相沉積系統(HDPCVD)搬遷	—	—	得標
2004/06/15公告	財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室	HDP CVD機台零件維修	—	—	得標
2003/12/02公告	財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室	SPUTTER維護靶材更新	—	—	得標
2002/12/18公告	交通大學半導體中心	高密度電漿活性離子蝕刻機之高真空分子PUMP維修	—	—	得標
2002/12/17公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	高溫高電漿密度化學氣相沉積系統零組件	—	—	得標
2002/11/15公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室104	機械手臂維修	—	—	得標
2002/09/16公告	國立交通大學總務處圖書儀器購運組	活性離子蝕刻系統之擴充高溫高電漿密度化學氣相沈積真空腔一部	—	—	得標
2002/08/28公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室104	STS MULTI CHAMBER ETCHER 蝕刻機搬遷至南科	—	—	得標
2002/06/07公告	交通大學總務處圖書儀器購運組	集束型製程設備傳輸模組一組	—	—	得標
2002/06/04公告	國防部軍備局中山科學研究院設施供應處	高密度電漿蝕刻機等一項	—	—	得標
2002/03/15公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	高電漿密度化學氣相沈積系統及蝕刻機台零組件	—	—	得標
2002/02/18公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	高電漿化學氣相沈積系統之高真空改善	—	—	得標
2002/01/09公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	高電漿密度化學沈積系統零組件	—	—	得標
2002/01/08公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	金屬濺鍍機之高真空改善	—	—	得標
2001/07/09公告	國立交通大學總務處圖書儀器購運組	金屬濺鍍機一部	—	—	得標
2001/06/14公告	私立大同大學	高密度電漿蝕刻機	—	—	得標
2001/06/07公告	國立臺北科技大學	微波電漿產生系統	—	—	得標
2000/10/06公告	行政院國科會國家奈米元件實驗室103	反應腔之製程氣體控制系統	—	—	得標
2000/09/18公告	國立成功大學總務處採購組	電漿化學氣相沉積設備壹套	—	—	得標
2000/07/29公告	國防部軍備局中山科學研究院設施供應處	離子加工附屬零件及管路材料1項	—	—	得標
2000/06/09公告	國立交通大學總務處圖書儀器購運組	高電漿化學氣相沉積系統之前級表面處理反應腔	—	—	得標
2000/05/30公告	國立成功大學總務處採購組	活性離子電漿蝕刻機壹套	—	—	得標

標「公告」的日期取自決標公告日，與實際決標日差數日。出價與決標價要另外抓每案明細，這 23 筆目前補到 0 筆；未補到的顯示「—」，不是零元。